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Plasma Chemistry And Plasma Processing
人氣：17

Plasma Chemistry And Plasma Processing SCIE

  • ISSN：0272-4324
  • 出版商：Springer US
  • 出版語言：English
  • E-ISSN：1572-8986
  • 出版地區(qū)：UNITED STATES
  • 是否預警：否
  • 創(chuàng)刊時間：1981
  • 出版周期：Quarterly
  • TOP期刊：否
  • 影響因子：2.6
  • 是否OA：未開放
  • CiteScore：5.9
  • H-index：57
  • 研究類文章占比：95.12%
  • Gold OA文章占比：14.18%
  • 文章自引率：0.0833...
  • 開源占比：0.0935
  • OA被引用占比：0.0820...
  • 出版國人文章占比：0.18
  • 出版修正文章占比：0.0202...
  • 國際標準簡稱：PLASMA CHEM PLASMA P
  • 涉及的研究方向：工程技術-工程：化工
  • 中文名稱：等離子化學和等離子處理
  • 預計審稿周期： 較慢,6-12周
國內分區(qū)信息：

大類學科：物理與天體物理  中科院分區(qū)  3區(qū)

國際分區(qū)信息：

JCR學科：ENGINEERING, CHEMICAL、PHYSICS, APPLIED、PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS  JCR分區(qū)  Q2

  • 影響因子：2.6
  • Gold OA文章占比：14.18%
  • OA被引用占比：0.0820...
  • CiteScore：5.9
  • 研究類文章占比：95.12%
  • 開源占比：0.0935
  • 文章自引率：0.0833...
  • 出版國人文章占比：0.18

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Plasma Chemistry And Plasma Processing 期刊簡介

Plasma Chemistry And Plasma Processing是物理與天體物理領域的一本優(yōu)秀期刊。由Springer US出版社出版。該期刊主要發(fā)表物理與天體物理領域的原創(chuàng)性研究成果。創(chuàng)刊于1981年，該期刊主要刊載工程技術-工程：化工及其基礎研究的前瞻性、原始性、首創(chuàng)性研究成果、科技成就和進展。該期刊不僅收錄了該領域的科技成就和進展，更以其深厚的學術積淀和卓越的審稿標準，確保每篇文章都具備高度的學術價值。此外，該刊同時被SCIE數據庫收錄，并被劃分為中科院SCI3區(qū)期刊，它始終堅持創(chuàng)新，不斷專注于發(fā)布高度有價值的研究成果，不斷推動物理與天體物理領域的進步。

同時，我們注重來稿文章表述的清晰度，以及其與我們的讀者群體和研究領域的相關性。為此，我們期待所有投稿的文章能夠保持簡潔明了、組織有序、表述清晰。該期刊平均審稿速度為平均 較慢,6-12周 。若您對于稿件是否適合該期刊存在疑慮，建議您在提交前主動與期刊主編取得聯(lián)系，或咨詢本站的客服老師。我們的客服老師將根據您的研究內容和方向，為您推薦最為合適的期刊，助力您順利投稿，實現(xiàn)學術成果的順利發(fā)表。

Plasma Chemistry And Plasma Processing 期刊國內分區(qū)信息

中科院分區(qū) 2023年12月升級版
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2022年12月升級版
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級版
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月基礎版
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 4區(qū) 3區(qū) 2區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2021年12月升級版
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級版
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否

Plasma Chemistry And Plasma Processing 期刊國際分區(qū)信息（2023-2024年最新版）

按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科：ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q3 91 / 170

46.8%
學科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 81 / 179

55%
學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 12 / 40

71.3%
按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科：ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 55 / 171

68.13%
學科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 69 / 179

61.73%
學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 17 / 40

58.75%

CiteScore指數（2024年最新版）

  • CiteScore：5.9
  • SJR：0.48
  • SNIP：0.912
學科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics Q1 108 / 434

75%
大類：Physics and Astronomy 小類：Surfaces, Coatings and Films Q2 34 / 132

74%
大類：Physics and Astronomy 小類：General Chemical Engineering Q2 79 / 273

71%
大類：Physics and Astronomy 小類：General Chemistry Q2 119 / 408

70%

期刊評價數據趨勢圖

中科院分區(qū)趨勢圖
期刊影響因子和自引率趨勢圖

發(fā)文統(tǒng)計

年發(fā)文量統(tǒng)計
年份 2014 2015 2016 2017 2018 2019 2020 2021 2022 2023
年發(fā)文量 88 67 94 96 78 91 119 74 85 123
國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計
國家/地區(qū) 數量
CHINA MAINLAND 70
Russia 37
USA 29
France 26
GERMANY (FED REP GER) 21
Czech Republic 15
Iran 14
India 12
Japan 12
Poland 11
機構發(fā)文量統(tǒng)計
機構 數量
RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES 24
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) 21
CZECH ACADEMY OF SCIENCES 10
XI'AN JIAOTONG UNIVERSITY 10
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES 9
DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY 9
COMENIUS UNIVERSITY BRATISLAVA 7
IVANOVO STATE UNIVERSITY OF CHEMISTRY & TECHNOLOGY 7
STATE UNIVERSITY SYSTEM OF FLORIDA 7
KOREA UNIVERSITY 6

高引用文章

文章名稱 引用次數
Effect of Cold Atmospheric Pressure Plasma on Maize Seeds: Enhancement of Seedlings Growth and Surface Microorganisms Inactivation 23
Cold Atmospheric Pressure Plasma Can Induce Adaptive Response in Pea Seeds 14
Inactivation of Shewanella putrefaciens by Plasma Activated Water 13
Seed Priming with Non-thermal Plasma Modified Plant Reactions to Selenium or Zinc Oxide Nanoparticles: Cold Plasma as a Novel Emerging Tool for Plant Science 13
Stimulation of the Germination and Early Growth of Tomato Seeds by Non-thermal Plasma 12
Evaluation of Oxidative Species in Gaseous and Liquid Phase Generated by Mini-Gliding Arc Discharge 12
Non-thermal Plasma Induced Expression of Heat Shock Factor A4A and Improved Wheat (Triticum aestivum L.) Growth and Resistance Against Salt Stress 11
Effect of the Magnetic Field on the Magnetically Stabilized Gliding Arc Discharge and Its Application in the Preparation of Carbon Black Nanoparticles 9
On the Possibilities of Straightforward Characterization of Plasma Activated Water 8
Plasma Activated Organic Fertilizer 8

免責聲明

若用戶需要出版服務，請聯(lián)系出版商：SPRINGER, 233 SPRING ST, NEW YORK, USA, NY, 10013。

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