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Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems
人氣:14

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems SCIE

  • ISSN:1932-5150
  • 出版商:SPIE
  • 出版語言:English
  • E-ISSN:1932-5134
  • 出版地區(qū):UNITED STATES
  • 是否預(yù)警:
  • 創(chuàng)刊時(shí)間:2007
  • 出版周期:Quarterly
  • TOP期刊:
  • 是否OA:未開放
  • CiteScore:3.4
  • H-index:37
  • 研究類文章占比:0.00%
  • Gold OA文章占比:7.69%
  • 開源占比:0.0769
  • 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱:J MICRO-NANOLITH MEM
  • 涉及的研究方向:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
  • 中文名稱:微納光刻技術(shù)雜志
  • 預(yù)計(jì)審稿周期: 較慢,6-12周
國(guó)內(nèi)分區(qū)信息:

大類學(xué)科:物理與天體物理  中科院分區(qū)  2區(qū)

國(guó)際分區(qū)信息:

JCR學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC、MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY、NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY、OPTICS  JCR分區(qū)  Q3

  • Gold OA文章占比:7.69%
  • CiteScore:3.4
  • 研究類文章占比:0.00%
  • 開源占比:0.0769

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Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems 期刊簡(jiǎn)介

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems是物理與天體物理領(lǐng)域的一本權(quán)威期刊。由SPIE出版社出版。該期刊主要發(fā)表物理與天體物理領(lǐng)域的原創(chuàng)性研究成果。創(chuàng)刊于2007年,是物理與天體物理領(lǐng)域中具有代表性的學(xué)術(shù)刊物。該期刊主要刊載ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY及其基礎(chǔ)研究的前瞻性、原始性、首創(chuàng)性研究成果、科技成就和進(jìn)展。該期刊不僅收錄了該領(lǐng)域的科技成就和進(jìn)展,更以其深厚的學(xué)術(shù)積淀和卓越的審稿標(biāo)準(zhǔn),確保每篇文章都具備高度的學(xué)術(shù)價(jià)值。此外,該刊同時(shí)被SCIE數(shù)據(jù)庫(kù)收錄,并被劃分為中科院SCI2區(qū)期刊,它始終堅(jiān)持創(chuàng)新,不斷專注于發(fā)布高度有價(jià)值的研究成果,不斷推動(dòng)物理與天體物理領(lǐng)域的進(jìn)步。

同時(shí),我們注重來稿文章表述的清晰度,以及其與我們的讀者群體和研究領(lǐng)域的相關(guān)性。為此,我們期待所有投稿的文章能夠保持簡(jiǎn)潔明了、組織有序、表述清晰。該期刊平均審稿速度為平均 較慢,6-12周 。若您對(duì)于稿件是否適合該期刊存在疑慮,建議您在提交前主動(dòng)與期刊主編取得聯(lián)系,或咨詢本站的客服老師。我們的客服老師將根據(jù)您的研究?jī)?nèi)容和方向,為您推薦最為合適的期刊,助力您順利投稿,實(shí)現(xiàn)學(xué)術(shù)成果的順利發(fā)表。

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems 期刊國(guó)內(nèi)分區(qū)信息

中科院分區(qū) 2023年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院分區(qū) 2022年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems 期刊國(guó)際分區(qū)信息(2023-2024年最新版)

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 187 / 275

32.2%

學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 255 / 342

25.6%

學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 91 / 107

15.4%

學(xué)科:OPTICS SCIE Q3 68 / 100

32.5%

CiteScore指數(shù)(2024年最新版)

  • CiteScore:3.4
  • SJR:0.393
  • SNIP:1.723
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Mechanical Engineering Q2 299 / 672

55%

大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 389 / 797

51%

大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q3 113 / 224

49%

大類:Engineering 小類:Condensed Matter Physics Q3 223 / 434

48%

大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 155 / 284

45%

期刊評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)趨勢(shì)圖

中科院分區(qū)趨勢(shì)圖
期刊影響因子和自引率趨勢(shì)圖

發(fā)文統(tǒng)計(jì)

年發(fā)文量統(tǒng)計(jì)
年份 2014 2015 2016 2017 2018 2019 2020 2021 2022 2023
年發(fā)文量 120 105 95 77 68 52 26 0 0 0

免責(zé)聲明

若用戶需要出版服務(wù),請(qǐng)聯(lián)系出版商:SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225。

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