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Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems是物理與天體物理領(lǐng)域的一本權(quán)威期刊。由SPIE出版社出版。該期刊主要發(fā)表物理與天體物理領(lǐng)域的原創(chuàng)性研究成果。創(chuàng)刊于2007年,是物理與天體物理領(lǐng)域中具有代表性的學(xué)術(shù)刊物。該期刊主要刊載ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY及其基礎(chǔ)研究的前瞻性、原始性、首創(chuàng)性研究成果、科技成就和進(jìn)展。該期刊不僅收錄了該領(lǐng)域的科技成就和進(jìn)展,更以其深厚的學(xué)術(shù)積淀和卓越的審稿標(biāo)準(zhǔn),確保每篇文章都具備高度的學(xué)術(shù)價(jià)值。此外,該刊同時(shí)被SCIE數(shù)據(jù)庫(kù)收錄,并被劃分為中科院SCI2區(qū)期刊,它始終堅(jiān)持創(chuàng)新,不斷專注于發(fā)布高度有價(jià)值的研究成果,不斷推動(dòng)物理與天體物理領(lǐng)域的進(jìn)步。
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大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 2區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 187 / 275 |
32.2% |
學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q3 | 255 / 342 |
25.6% |
學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 91 / 107 |
15.4% |
學(xué)科:OPTICS | SCIE | Q3 | 68 / 100 |
32.5% |
學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
大類:Engineering 小類:Mechanical Engineering | Q2 | 299 / 672 |
55% |
大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering | Q2 | 389 / 797 |
51% |
大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q3 | 113 / 224 |
49% |
大類:Engineering 小類:Condensed Matter Physics | Q3 | 223 / 434 |
48% |
大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q3 | 155 / 284 |
45% |
年份 | 2014 | 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 |
年發(fā)文量 | 120 | 105 | 95 | 77 | 68 | 52 | 26 | 0 | 0 | 0 |
SCIE
影響因子 4.2
CiteScore 1.5
SCIE
影響因子 0.9
CiteScore 1.6
SCIE
影響因子 1.8
CiteScore 3.1
SCIE
影響因子 2.7
CiteScore 6.9
SCIE
影響因子 0.5
CiteScore 1.4
SCIE
CiteScore 4
SCIE
影響因子 4.8
CiteScore 6.7
SCIE
CiteScore 2.8
SCIE
影響因子 0.7
CiteScore 1.4
SCIE
影響因子 1.3
CiteScore 2.7
若用戶需要出版服務(wù),請(qǐng)聯(lián)系出版商:SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225。