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Journal Of Electrostatics是工程技術(shù)領(lǐng)域的一本優(yōu)秀期刊。由Elsevier出版社出版。該期刊主要發(fā)表工程技術(shù)領(lǐng)域的原創(chuàng)性研究成果。創(chuàng)刊于1975年,該期刊主要刊載工程技術(shù)-工程:電子與電氣及其基礎(chǔ)研究的前瞻性、原始性、首創(chuàng)性研究成果、科技成就和進展。該期刊不僅收錄了該領(lǐng)域的科技成就和進展,更以其深厚的學(xué)術(shù)積淀和卓越的審稿標準,確保每篇文章都具備高度的學(xué)術(shù)價值。此外,該刊同時被SCIE數(shù)據(jù)庫收錄,并被劃分為中科院SCI4區(qū)期刊,它始終堅持創(chuàng)新,不斷專注于發(fā)布高度有價值的研究成果,不斷推動工程技術(shù)領(lǐng)域的進步。
同時,我們注重來稿文章表述的清晰度,以及其與我們的讀者群體和研究領(lǐng)域的相關(guān)性。為此,我們期待所有投稿的文章能夠保持簡潔明了、組織有序、表述清晰。該期刊平均審稿速度為平均 約3.0個月 約6周。若您對于稿件是否適合該期刊存在疑慮,建議您在提交前主動與期刊主編取得聯(lián)系,或咨詢本站的客服老師。我們的客服老師將根據(jù)您的研究內(nèi)容和方向,為您推薦最為合適的期刊,助力您順利投稿,實現(xiàn)學(xué)術(shù)成果的順利發(fā)表。
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 | 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 | 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 | 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 | 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 | 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 | 4區(qū) | 否 | 否 |
按JIF指標學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 211 / 352 |
40.2% |
按JCI指標學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 200 / 354 |
43.64% |
學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics | Q2 | 182 / 434 |
58% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Electrical and Electronic Engineering | Q2 | 335 / 797 |
58% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q2 | 134 / 284 |
52% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces, Coatings and Films | Q2 | 63 / 132 |
52% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Biotechnology | Q3 | 167 / 311 |
46% |
年份 | 2014 | 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 |
年發(fā)文量 | 71 | 129 | 72 | 117 | 81 | 57 | 82 | 67 | 74 | 53 |
國家/地區(qū) | 數(shù)量 |
USA | 45 |
CHINA MAINLAND | 35 |
Japan | 25 |
Russia | 21 |
France | 18 |
Iran | 17 |
Algeria | 13 |
Canada | 10 |
Poland | 9 |
Estonia | 8 |
機構(gòu) | 數(shù)量 |
UNIVERSITE DE POITIERS | 14 |
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) | 12 |
RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES | 11 |
ECOLE NATIONALE SUPERIEURE DE MECANIQUE ET D'AEROTECHNIQUE (ISAE-ENSMA) | 10 |
UNIVERSITE CONFEDERALE LEONARD DE VINCI | 10 |
TALLINN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY | 7 |
UNIVERSITY DJILLALI LIABES SIDI BEL ABBES | 7 |
UNIVERSITY OF OKLAHOMA SYSTEM | 7 |
WESTERN UNIVERSITY (UNIVERSITY OF WESTERN ONTARIO) | 6 |
NORTH CHINA ELECTRIC POWER UNIVERSITY | 5 |
文章名稱 | 引用次數(shù) |
Improvement of an electrostatic cleaning system for removal of dust from solar panels | 9 |
Electrohydrodynamic flows in electrostatic precipitator of five shaped collecting electrodes | 9 |
Ionic wind produced by positive and negative corona discharges in air | 7 |
Efficacy of underwater AC diaphragm discharge in generation of reactive species in aqueous solutions | 6 |
Charged monosized droplet behaviour and wetting ability on hydrophobic leaf surfaces depending on surfactant-pesticide concentrate formulation | 6 |
Characterization of electrohydrodynamic (EHD) flow in electrostatic precitators (ESP) by numerical simulation and quantitative vortex analysis | 6 |
Kinetic characterization of plasma-enhanced catalysis of high-concentration volatile organic compounds over mullite supported perovskite catalysts | 5 |
Influence of particle concentration and residence time on the efficiency of nanoparticulate collection by electrostatic precipitation | 5 |
Electrospun conductive mats from PANi-ionic liquid blends | 5 |
A microfluidics device for 3D switching of microparticles using dielectrophoresis | 5 |
SCIE
影響因子 1.5
CiteScore 2.8
SCIE
影響因子 1.5
CiteScore 3.6
SCIE
CiteScore 8.9
SCIE
影響因子 0.5
CiteScore 1.8
SCIE
影響因子 2.2
CiteScore 6.5
SCIE
影響因子 0.4
CiteScore 2.2
SCIE SSCI
影響因子 4.1
CiteScore 7.1
SCIE SSCI
影響因子 0.9
CiteScore 1.5
SCIE SSCI
影響因子 12.5
CiteScore 22.1
SCIE
影響因子 4.5
CiteScore 8.1
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