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Ieee Photonics Technology Letters
人氣:44

Ieee Photonics Technology Letters SCIE

  • ISSN:1041-1135
  • 出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
  • 出版語(yǔ)言:English
  • E-ISSN:1941-0174
  • 出版地區(qū):UNITED STATES
  • 是否預(yù)警:
  • 創(chuàng)刊時(shí)間:1989
  • 出版周期:Monthly
  • TOP期刊:
  • 影響因子:2.3
  • 是否OA:未開(kāi)放
  • CiteScore:5
  • H-index:143
  • 研究類文章占比:100.00%
  • Gold OA文章占比:16.15%
  • 文章自引率:0.0384...
  • 開(kāi)源占比:0.0642
  • 出版國(guó)人文章占比:0.38
  • 出版修正文章占比:0.0107...
  • 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱:IEEE PHOTONIC TECH L
  • 涉及的研究方向:工程技術(shù)-工程:電子與電氣
  • 中文名稱:IEEE 光子技術(shù)快報(bào)
  • 預(yù)計(jì)審稿周期: 約2.0個(gè)月
國(guó)內(nèi)分區(qū)信息:

大類學(xué)科:工程技術(shù)  中科院分區(qū)  3區(qū)

國(guó)際分區(qū)信息:

JCR學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC、OPTICS、PHYSICS, APPLIED  JCR分區(qū)  Q2

  • 影響因子:2.3
  • Gold OA文章占比:16.15%
  • CiteScore:5
  • 研究類文章占比:100.00%
  • 開(kāi)源占比:0.0642
  • 文章自引率:0.0384...
  • 出版國(guó)人文章占比:0.38

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Ieee Photonics Technology Letters 期刊簡(jiǎn)介

Ieee Photonics Technology Letters是工程技術(shù)領(lǐng)域的一本優(yōu)秀期刊。由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版社出版。該期刊主要發(fā)表工程技術(shù)領(lǐng)域的原創(chuàng)性研究成果。創(chuàng)刊于1989年,該期刊主要刊載工程技術(shù)-工程:電子與電氣及其基礎(chǔ)研究的前瞻性、原始性、首創(chuàng)性研究成果、科技成就和進(jìn)展。該期刊不僅收錄了該領(lǐng)域的科技成就和進(jìn)展,更以其深厚的學(xué)術(shù)積淀和卓越的審稿標(biāo)準(zhǔn),確保每篇文章都具備高度的學(xué)術(shù)價(jià)值。此外,該刊同時(shí)被SCIE數(shù)據(jù)庫(kù)收錄,并被劃分為中科院SCI3區(qū)期刊,它始終堅(jiān)持創(chuàng)新,不斷專注于發(fā)布高度有價(jià)值的研究成果,不斷推動(dòng)工程技術(shù)領(lǐng)域的進(jìn)步。

同時(shí),我們注重來(lái)稿文章表述的清晰度,以及其與我們的讀者群體和研究領(lǐng)域的相關(guān)性。為此,我們期待所有投稿的文章能夠保持簡(jiǎn)潔明了、組織有序、表述清晰。該期刊平均審稿速度為平均 約2.0個(gè)月 。若您對(duì)于稿件是否適合該期刊存在疑慮,建議您在提交前主動(dòng)與期刊主編取得聯(lián)系,或咨詢本站的客服老師。我們的客服老師將根據(jù)您的研究?jī)?nèi)容和方向,為您推薦最為合適的期刊,助力您順利投稿,實(shí)現(xiàn)學(xué)術(shù)成果的順利發(fā)表。

Ieee Photonics Technology Letters 期刊國(guó)內(nèi)分區(qū)信息

中科院分區(qū) 2023年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院分區(qū) 2022年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 3區(qū) 4區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

Ieee Photonics Technology Letters 期刊國(guó)際分區(qū)信息(2023-2024年最新版)

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 175 / 352

50.4%

學(xué)科:OPTICS SCIE Q2 51 / 119

57.6%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 100 / 179

44.4%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 159 / 354

55.23%

學(xué)科:OPTICS SCIE Q2 53 / 120

56.25%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 72 / 179

60.06%

CiteScore指數(shù)(2024年最新版)

  • CiteScore:5
  • SJR:0.684
  • SNIP:0.988
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 261 / 797

67%

大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q2 75 / 224

66%

大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 95 / 284

66%

期刊評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)趨勢(shì)圖

中科院分區(qū)趨勢(shì)圖
期刊影響因子和自引率趨勢(shì)圖

發(fā)文統(tǒng)計(jì)

年發(fā)文量統(tǒng)計(jì)
年份 2014 2015 2016 2017 2018 2019 2020 2021 2022 2023
年發(fā)文量 617 644 714 552 528 411 374 372 330 359
國(guó)家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計(jì)
國(guó)家/地區(qū) 數(shù)量
CHINA MAINLAND 699
USA 183
Canada 74
GERMANY (FED REP GER) 72
England 69
India 69
Japan 68
South Korea 57
France 46
Italy 43
機(jī)構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計(jì)
機(jī)構(gòu) 數(shù)量
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES 100
HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE & TECHNOLOGY 54
INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY SYSTEM (IIT SYSTEM) 39
SHANGHAI JIAO TONG UNIVERSITY 39
ZHEJIANG UNIVERSITY 31
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) 29
TSINGHUA UNIVERSITY 25
NANJING UNIVERSITY 23
IMEC 22
UNIVERSITY OF ELECTRONIC SCIENCE & TECHNOLOGY OF CHINA 22

高引用文章

文章名稱 引用次數(shù)
On the Performance of MIMO-NOMA-Based Visible Light Communication Systems 34
Graphene Sensor Based on Surface Plasmon Resonance for Optical Scanning 24
Monolithic Red/Green/Blue Micro-LEDs With HBR and DBR Structures 20
A VLC Smartphone Camera Based Indoor Positioning System 20
1.3-mu m Reflection Insensitive InAs/GaAs Quantum Dot Lasers Directly Grown on Silicon 17
Active Matrix Monolithic LED Micro-Display Using GaN-on-Si Epilayers 16
Polarization Beam Splitter Based on MMI Coupler With SWG Birefringence Engineering on SOI 15
Plasmonic Refractive Index Sensor Employing Niobium Nanofilm on Photonic Crystal Fiber 15
Black Phosphorus: A New Platform for Gaseous Sensing Based on Surface Plasmon Resonance 14
Toward the Integration of CV Quantum Key Distribution in Deployed Optical Networks 14

免責(zé)聲明

若用戶需要出版服務(wù),請(qǐng)聯(lián)系出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。

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