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Microelectronic Engineering是工程技術(shù)領(lǐng)域的一本優(yōu)秀期刊。由Elsevier出版社出版。該期刊主要發(fā)表工程技術(shù)領(lǐng)域的原創(chuàng)性研究成果。創(chuàng)刊于1983年,該期刊主要刊載工程技術(shù)-工程:電子與電氣及其基礎(chǔ)研究的前瞻性、原始性、首創(chuàng)性研究成果、科技成就和進展。該期刊不僅收錄了該領(lǐng)域的科技成就和進展,更以其深厚的學(xué)術(shù)積淀和卓越的審稿標準,確保每篇文章都具備高度的學(xué)術(shù)價值。此外,該刊同時被SCIE數(shù)據(jù)庫收錄,并被劃分為中科院SCI4區(qū)期刊,它始終堅持創(chuàng)新,不斷專注于發(fā)布高度有價值的研究成果,不斷推動工程技術(shù)領(lǐng)域的進步。
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大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 | 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 | 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 | 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
按JIF指標學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 157 / 352 |
55.5% |
學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 94 / 140 |
33.2% |
學(xué)科:OPTICS | SCIE | Q2 | 45 / 119 |
62.6% |
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 81 / 179 |
55% |
按JCI指標學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 179 / 354 |
49.58% |
學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 74 / 140 |
47.5% |
學(xué)科:OPTICS | SCIE | Q3 | 64 / 120 |
47.08% |
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 88 / 179 |
51.12% |
學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics | Q2 | 127 / 434 |
70% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics | Q2 | 68 / 224 |
69% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Electrical and Electronic Engineering | Q2 | 242 / 797 |
69% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q2 | 87 / 284 |
69% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces, Coatings and Films | Q2 | 42 / 132 |
68% |
年份 | 2014 | 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 |
年發(fā)文量 | 410 | 423 | 334 | 284 | 225 | 234 | 165 | 127 | 118 | 100 |
國家/地區(qū) | 數(shù)量 |
CHINA MAINLAND | 104 |
South Korea | 80 |
France | 56 |
USA | 47 |
Japan | 45 |
GERMANY (FED REP GER) | 41 |
India | 36 |
Taiwan | 31 |
Greece | 27 |
Italy | 27 |
機構(gòu) | 數(shù)量 |
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) | 38 |
CEA | 22 |
COMMUNAUTE UNIVERSITE GRENOBLE ALPES | 18 |
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES | 15 |
FUDAN UNIVERSITY | 14 |
TECHNICAL UNIVERSITY OF DENMARK | 13 |
AUTONOMOUS UNIVERSITY OF BARCELONA | 12 |
CONSIGLIO NAZIONALE DELLE RICERCHE (CNR) | 12 |
NATIONAL CENTRE OF SCIENTIFIC RESEARCH DEMOKRITOS | 12 |
CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC) | 10 |
文章名稱 | 引用次數(shù) |
Beyond the lateral flow assay: A review of paper-based microfluidics | 40 |
3D printed microfluidics and microelectronics | 36 |
Brain-inspired computing with resistive switching memory (RRAM): Devices, synapses and neural networks | 36 |
Emerging trends in wide band gap semiconductors (SiC and GaN) technology for power devices | 32 |
Focused electron beam induced deposition meets materials science | 29 |
Micropumps and biomedical applications - A review | 25 |
Conduction mechanisms, dynamics and stability in ReRAMs | 17 |
Beyond 100 nm resolution in 3D laser lithography - Post processing solutions | 17 |
Microfluidic platforms for cell cultures and investigations | 17 |
Using block copolymers as infiltration sites for development of future nanoelectronic devices: Achievements, barriers, and opportunities | 11 |
SCIE
影響因子 1.5
CiteScore 2.8
SCIE
影響因子 1.5
CiteScore 3.6
SCIE
CiteScore 8.9
SCIE
影響因子 0.5
CiteScore 1.8
SCIE
影響因子 2.2
CiteScore 6.5
SCIE
影響因子 0.4
CiteScore 2.2
SCIE SSCI
影響因子 4.1
CiteScore 7.1
SCIE SSCI
影響因子 0.9
CiteScore 1.5
SCIE SSCI
影響因子 12.5
CiteScore 22.1
SCIE
影響因子 4.5
CiteScore 8.1
若用戶需要出版服務(wù),請聯(lián)系出版商:ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1000 AE。